上交所：受理拓荆科技科创板IPO申请

　　中证网讯（记者 黄一灵）7月12日，上交所受理拓荆科技股份有限公司（以下简称“ 拓荆科技”）的科创板IPO申请。

　　招股书显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

　　公司拟募集资金金额为10亿元，将投资高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备技术研发与改进项目、ALD设备研发和产业化项目以及补充流动资金。